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FIB-SEM双束电镜应用之Xe等离子快速切割技术

内容节点
概述
实验/设备条件
样品提取
实验/操作方法
实验结果/结论
仪器/耗材清单
方案优势
Xe等离子FIB能够实现微纳米,甚至毫米级的快速加工。Xe等离子FIB的zui大束流为2μA,另外Xe离子的原子量更大,对纯Si的溅射效率比Ga离子约高30%。虽然Xe离子的溅射效率高,但是由于Xe离子的直径较大,Xe等离子束加工样品时产生的注入效应和损伤要比Ga离子束小。


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